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芯源微推出浸没式高产能涂胶显影机新品,已通过客户端验证

2022-12-17 13:59:58作者:杜玉梅来源:IT之家  阅读量:14949  

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芯源微推出浸没式高产能涂胶显影机新品,已通过客户端验证

鑫源微是中国胶粘细分领域的领导者公司今日宣布,将在公司成立20周年之际举行新品发布会,推出最新一代前道浸入式大容量涂胶显影机FT300

据介绍,该机型采用独创的对称分布大容量架构,全套配备36个自旋处理单元,并配备自主研发的双向同步取放机械手,可大幅提升整机的机械传动能力和传动精度,在光刻机方面可匹配全球主流在线生产,在复杂工艺下可实现300片以上的产能。

该模型通过选型可以全面覆盖I—line,KrF,ArF dry,ArF immersion等光刻技术,也适用于包括SOC,SOH,SOD等其他旋涂应用。

为了应对未来光刻机产能的不断提升,该机可以扩展到更多的加工单元,同时可以在较低的占地面积下,兼顾机器的可维护性,有效提高机器的维护效率。

本站了解到,这种模式可以扩展到更多的处理单元,从目前的36旋增加到48旋,生产能力提高到每小时360件同时可以在较低的占地面积下兼顾机器的可维护性,有效提高机器的维护效率

鑫源威前方道路设计部部长胡成表示,作为鑫源威自主研发的第三代机型,浸入式大容量粘合剂显影剂具有高生产力,高制程能力,高清洁度,高扩展性,易维护等优点目前,该型号已通过客户端验证,满足客户量产要求,成功打破国外垄断,填补国内空白

图:芯源微

此外,机器配备了公司研发的精准温度调制技术,使热板烘烤温度均匀性达到行业领先水平,全新的旋压单元实时控制技术,可有效提高机器运动控制和流体控制的准确性,响应性和稳定性,不断为客户降低成本,通过仿真优化整机流场,保证内部微环境的均匀稳定,提高整机洁净度水平一系列辅助功能单元,包括AOI,WEE系统等,可在线检测晶圆制程缺陷,减少不良品流出

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